Design, progettazione e costruzione di un impianto da sputtering per deposizione su substrati di grande area-Master Thesis Pretto Nicola

Author: Pretto Nicola ; Type of thesis: Master Thesis
Abstract: Il presente lavoro di tesi ha visto la progettazione meccanica, mediante Autodesk® Inventor™ “Professional 2008”, di una camera da Ultra Alto Vuoto per la deposizione fisica da fase vapore -magnetron sputtering- di film metallici su substrati nastriformi, adottando un sistema di movimentazione di tipo roll-to-roll. La peculiarità di questo apparato è quella di poter trattare, in un’unica sessione, un nastro continuo lungo anche qualche centinaio di metri. Il progetto è nato contestualmente alla necessità della TFE (Thin Film Equipment) di avere un impianto pilota semi-industriale per la produzione in continuo di film sottili di silice su materiale plastico. Con tale apparato, la TFE intende effettuare uno studio di processo atto a caratterizzarne i parametri ed a verificare le caratteristiche dei film, in vista della possibile costruzione di un vero e proprio impianto industriale per la STMicroelectronics. In particolare, la progettazione della macchina è un’operazione di refurbishing di una parte di un sistema da vuoto già esistente e parzialmente funzionante, ma oramai dismesso, che fu costruito allo scopo di conservare le cavità a quarto d’onda in piombo dell’acceleratore dei Laboratori Nazionali di Legnaro in un ambiente il più possibile pulito: il vuoto spinto. Questa camera, oltre a poter essere impiegata come impianto pilota per uno studio di processo industriale di deposizione su nastro, è stata predisposta anche per poter trattare substrati generici, all’occorrenza, previa rimozione del sistema di movimentazione. L’operazione iniziale è stata la trasposizione su file dei due sistemi da vuoto dismessi; quindi è stata effettuata una veloce analisi degli spazi destinati ad alloggiare il futuro impianto, ne sono stati definiti gli utilizzi ed i requisiti tecnici, sono stati valutati gli interventi da effettuare ed infine sono stati presi in considerazione gli accessori da applicare, con particolare attenzione ai sistemi di deposizione e di movimentazione del nastro.