NUOVE CONFIGURAZIONI DA SPUTTERING AD “ENHANCED IONIZATION DISCHARGE” PER FILM SOTTILI DI NIOBIO IN CAVITÀ ACCELERATRICI PER COLLIDER LINEARI DI NUOVA GENERAZIONE-Magistralis Degree Thesis Pira Cristian

Author: Pira Cristian ; Type of thesis: Magistralis Degree Thesis
Abstract: Questo lavoro di tesi è stato svolto nell’ambito di una possibile soluzione al problema del Q-slope, a partire dai risultati ottenuti dai precedenti lavori svolti dal gruppo di Scienza dei Materiali del Laboratorio di Superconduttività presso i Laboratori Nazionali di Legnaro dell’INFN.
Una delle cause più probabili del Q-slope è il basso Residual Resistivity Ratio (indice della purezza del materiale) dei film superconduttivi depositati. Si è cercato di aumentare il valore di RRR aumentando il deposition-rate del processo di sputtering mediante l’utilizzo di plasmi più densi. Un elevato deposition-rate diminuisce i tempi di deposizione (a parità di spessore) riducendo il numero di impurezze inglobate nel film in crescita. Si è studiata sia la possibilità di aumentare la densità di plasma con sorgenti esterne di tipo Hollow Cathode, sia quella di utilizzare il magnetron stesso in regime di emissione termoelettronica. Questo lavoro ha poi portato alla costruzione di un nuovo sistema di deposizione per cavità tipo TESLA da 1,5 GHz adatto a lavorare in regime di emissione termoelettronica. Con le varie configurazioni testate si sono depositate in totale 18 serie di campioni, che sono state opportunamente caratterizzate. I risultati ottenuti sono stati confrontati con le caratteristiche dei film depositati con il sistema CERN standard.

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